第350章 测试完成！让人惊艳的指标！ (第2/3页)

依旧还是花在EUV多层膜误差上。

    .......

    转眼。

    20天时间匆匆而逝。

    这天下午。

    京城光机所。

    实验室内。

    在这两周里，实验室调动所有的人力物力，进行了单块镜面校验，叠加镜面校验，全局光路盲测。

    此时.....

    全链路波前误差400次的平均结果在屏幕上显示出来：

    【全链路波前误差：0.18nm RMS】

    【波前峰谷误差：0.72nm PV】

    【成像对比度：71%】

    【24小时波前偏移：＜0.01nm】

    【24小时套刻精度：1.8nm】

    当看到这个数据，整个实验室的工程师们不由为之一震！

    紧接着，一股巨大的喜悦涌上众人心头！！

    这绝对是巨大的进步啊！！

    要知道。

    目前在国际上......

    全链路波前误差0.15 nm RMS以内，加对比度上70%，再加24小时套刻精度进入2nm，这几组数据同时达标，便标志着真正的与世界一流接轨了！

    而现在呈现出的数据呢？

    虽然在400次的测试中，全链路拨前误差，仍旧差了0.03 nm RMS！

    但在过程中......

    有近2成的情况，全链路拨前误差都能够压到0.12以下！！！

    这代表什么？

    代表林决这套方案，已经完全能够EUV 反射镜多层膜的原位相位非均匀性误差问题的！

    至于那0.03的差距......

    那并非是林决方案的问题，而是设备和材料上工艺上的差距！！！

    而且....

    就算存在这种差距，现在看来也并非不能解决！

    这一刻.....

    以前在众人在光刻机研发中，那种只能望其项背的感觉，在这一刻......彻底消失了！

    他们不但能够迫近，甚至偶尔能够做到超越一流标准的数据了，这是在以前想也不敢想的事情！！！

    “成了！连续四百组不同工况中，我们也能跑出稳定的结果了！！！”

    在众人噤声屁片刻后。

    在操控台的蒋墨双手握拳高举，做出了污渍请为我欢呼的香槟手势，

    “一个月都没到啊，咱们就把光路测试完成了，还有谁！还有谁啊！？”

    什么叫队友强，我猖狂？

    

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