第319章 CPU行业的瓶颈 (第2/3页)

台积电半导体三巨头，投了巨额资金，给全球顶级的光刻机厂家asmL，用来开euV技术，以期维持半导体行业的持续展。

    euV技术是延续摩尔定律，让7nm、5nm工艺，成功量产的希望。

    而且，euV技术，也是东华国内半导体制作技术，实现弯道车的机会，越国际的难得机会。

    在传统工艺上，东华已经难以过西方了，即便是过，也马上就要过时，只能用来生产低级芯片。

    东华在上个世纪九十年代，就开始进行euV相关方面的研究。

    2oo2年，研制出国内第一套euV极紫外光刻原理装置。

    2oo8年，在中科院的主导下，已经多家高校和科研机构参与到研究中，

    2o17年，euV极紫外光刻关键技术研究，已经到了最后攻关阶段，即将进行项目验收。

    实际上，这个时候，单纯的在euV的光刻机技术上，是东华和国际最近的一次，已经几乎在同一代以内了。

    而且关键是，但凡国内搞技术攻关，必然是要做一整套的技术。

    包括生产过程中用的各种材料与设备，都会进行整体的技术攻关，因为不自己弄，其他的设备和工艺，没有人会卖给你。

    而asmL则可以在不同的国家，采购最好的材料。

    前景看似很好，但是和asmL一样，仍然无法量产，国内的euV，比国外更难量产，因为配套体系跟不上，需要整体研。

    在这样的背景下，inte1给星辰半导体的7nm晶圆工厂图纸和技术，仍然还是半成品，而且有多套不成熟的备用方案。

    关于实现7nm，到底是不是必须用euV技术？euV技术，能不能赶上7nm的量产？inte1自己也没底。

    所以如果按照inte1的图纸来的话，工厂建设都最后，必然会转入实验阶段，传统工艺和euV都要进行测试，而不是直接量产，inte1自己也是一样。

    不过经过星辰的修改之后，这份图纸，已经是完善、成熟、而且确定的了。

    星辰随手把euV难产的问题，给解决了。

    

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